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        硬化涂層膜厚儀

        簡要描述:硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。

        • 產品型號:FR-Mic
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2021-12-13
        • 訪  問  量: 3265

        詳細介紹

        硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控 制的XY工作臺,使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。品牌屬于Thetametrisis。

        Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區域薄膜厚度,厚度映射,光學常數,反射率,折射率及消光系數進行測量。

        【相關應用】

        1.高校 & 研究所實驗室

        2.半導體制造

        3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)

        4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)

        5.LEDs, VCSELs

        6.數據存儲

        7.陽極處理

        8.曲面基底的硬鍍及軟鍍

        9.聚合物膜層, 粘合劑

        10.生物醫學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)

        11.還有許多…

        Thetametrisis膜厚儀特點】

        1、實時光譜測量

        2、薄膜厚度,光學特性,非均勻性測量, 厚度映射

        3、使用集成的,USB連接高品質彩色攝像機進行成像

         

         

        Thetametrisis膜厚儀產品優勢】

        1、單擊即可分析 (無需初始預測)

        2、動態測量

        3、包含光學參數 (n & k, color)

        4、可保存測量演示視頻錄像

        5、超過 600 種不同材料o 多個離線分析配套裝置o 免費操作軟件升級

        【技術參數】

        型號

        UV/VIS

        UV/NIR-EXT

        UV/NIR-HR

        DUV/NIR

        VIS/NIR

        DVIS/NIR

        NIR

        光譜波長范圍(nm)

        200–850

        200–1020

        200-1100

        200–1700

        370–1020

        370–1700

        900–1700

        光譜儀像素

        3648

        3648

        3648

        3648&512

        3648

        3648&512

        512

         

         

         

        膜厚測量范圍

        5X-VIS/NIR

        15nm–60μm

        15nm–70μm

        15nm–90μm

        15nm–150μm

        15nm–90μm

        15nm–150μm

        100nm–150μm

        10X-VIS/NIR

        10X-UV/NIR*

        4nm–50μm

        4nm–60μm

        4nm–80μm

        4nm–130μm

        15nm–80μm

        15nm–130μm

        100nm–130μm

        15X-UV/NIR*

        4nm–40μm

        4nm–50μm

        4nm–50μm

        4nm–120μm

        20X-VIS/NIR

        20X-UV/NIR*

        4nm–25μm

        4nm–30μm

        4nm–30μm

        4nm–50μm

        15nm–30μm

        15nm–50μm

        100nm–50μm

        40X-UV/NIR*

        4nm–4μm

        4nm–4μm

        4nm–5μm

        4nm–6μm

        50X-VIS/NIR

        15nm–5μm

        15nm–5μm

        100nm–5μm

        測量n&k蕞小厚度

        50nm

        50nm

        50nm

        50nm

        100nm

        100nm

        500nm

        光源

        氘燈&鹵素燈(internal)

        鹵素燈(internal)

        材料數據庫

        >600不同材料

        *測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。

        物鏡

        光斑尺寸(μm)

         

        500μm孔徑

        250μm孔徑

        100μm孔徑

        5x

        100μm

        50μm

        20μm

        10x

        50μm

        25μm

        10μm

        20x

        25μm

        17μm

        5μm

        50x

        10μm

        5μm

        2μm

        【工作原理】

         

         

        *規格如有更改,恕不另行通知, 測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續 15 天測量的標準方差平均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測量的標準方差,樣品:1um SiO2 on Si.

        *超過 15 天的標準偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。

        以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細的信息,請聯系我們獲取。

         

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