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      硬化涂層膜厚儀

      簡要描述:硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。

      • 產品型號:FR-Mic
      • 廠商性質:代理商
      • 更新時間:2021-12-13
      • 訪  問  量: 3265

      詳細介紹

      硬化涂層膜厚儀是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案,要求的光斑尺寸小到幾個微米,如微圖案表面,粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺計算機控 制的XY工作臺,使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。品牌屬于Thetametrisis。

      Thetametrisis利用 FR-Mic,通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區域薄膜厚度,厚度映射,光學常數,反射率,折射率及消光系數進行測量。

      【相關應用】

      1.高校 & 研究所實驗室

      2.半導體制造

      3.(氧化物/氮化物, 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)

      4.MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)

      5.LEDs, VCSELs

      6.數據存儲

      7.陽極處理

      8.曲面基底的硬鍍及軟鍍

      9.聚合物膜層, 粘合劑

      10.生物醫學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)

      11.還有許多…

      Thetametrisis膜厚儀特點】

      1、實時光譜測量

      2、薄膜厚度,光學特性,非均勻性測量, 厚度映射

      3、使用集成的,USB連接高品質彩色攝像機進行成像

       

       

      Thetametrisis膜厚儀產品優勢】

      1、單擊即可分析 (無需初始預測)

      2、動態測量

      3、包含光學參數 (n & k, color)

      4、可保存測量演示視頻錄像

      5、超過 600 種不同材料o 多個離線分析配套裝置o 免費操作軟件升級

      【技術參數】

      型號

      UV/VIS

      UV/NIR-EXT

      UV/NIR-HR

      DUV/NIR

      VIS/NIR

      DVIS/NIR

      NIR

      光譜波長范圍(nm)

      200–850

      200–1020

      200-1100

      200–1700

      370–1020

      370–1700

      900–1700

      光譜儀像素

      3648

      3648

      3648

      3648&512

      3648

      3648&512

      512

       

       

       

      膜厚測量范圍

      5X-VIS/NIR

      15nm–60μm

      15nm–70μm

      15nm–90μm

      15nm–150μm

      15nm–90μm

      15nm–150μm

      100nm–150μm

      10X-VIS/NIR

      10X-UV/NIR*

      4nm–50μm

      4nm–60μm

      4nm–80μm

      4nm–130μm

      15nm–80μm

      15nm–130μm

      100nm–130μm

      15X-UV/NIR*

      4nm–40μm

      4nm–50μm

      4nm–50μm

      4nm–120μm

      20X-VIS/NIR

      20X-UV/NIR*

      4nm–25μm

      4nm–30μm

      4nm–30μm

      4nm–50μm

      15nm–30μm

      15nm–50μm

      100nm–50μm

      40X-UV/NIR*

      4nm–4μm

      4nm–4μm

      4nm–5μm

      4nm–6μm

      50X-VIS/NIR

      15nm–5μm

      15nm–5μm

      100nm–5μm

      測量n&k蕞小厚度

      50nm

      50nm

      50nm

      50nm

      100nm

      100nm

      500nm

      光源

      氘燈&鹵素燈(internal)

      鹵素燈(internal)

      材料數據庫

      >600不同材料

      *測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關。

      物鏡

      光斑尺寸(μm)

       

      500μm孔徑

      250μm孔徑

      100μm孔徑

      5x

      100μm

      50μm

      20μm

      10x

      50μm

      25μm

      10μm

      20x

      25μm

      17μm

      5μm

      50x

      10μm

      5μm

      2μm

      【工作原理】

       

       

      *規格如有更改,恕不另行通知, 測量結果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續 15 天測量的標準方差平均值。樣品:1um SiO2 on Si., 100 次厚度測量的標準方差,樣品:1um SiO2 on Si.

      *超過 15 天的標準偏差日平均值樣品:1um SiO2 on Si。

      以上資料來自Thetametrisis,如果有需要更加詳細的信息,請聯系我們獲取。

       

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