EVG620 NT-掩模對準光刻機系統

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機

一、產品特色

EVG620 NT-掩模對準光刻機系統|接觸式光刻機提供國家的本領域掩模對準技術在小化的占位面積，支持高達150毫米晶圓尺寸。

二、技術數據

EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱，在小的占位面積上結合了先進的對準功能和優化的總體擁有成本，提供了先進的掩模對準技術。它是光學雙面光刻的理想工具，可提供半自動或自動配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案，以滿足大批量生產要求和制造標準。擁有操作員友好型軟件，短的掩模和工具更換時間以及高效的球服務和支持，使它成為任何制造環境的理想解決方案。

EVG620 NT或完全容納的EVG620 NT Gen2掩模對準系統配備了集成的振動隔離功能，可在各種應用中實現出色的曝光效果，例如，對薄而厚的光刻膠進行曝光，對深腔進行構圖并形成可比的形貌，以及對薄而易碎的材料（例如化合物半導體）進行加工。此外，半自動和全自動系統配置均支持EVG專有的SmartNIL技術。

三、光刻機特征

1、晶圓/基板尺寸從小到150 mm / 6''

2、系統設計支持光刻工藝的多功能性

3、易碎，薄或翹曲的多種尺寸的晶圓處理，更換時間短

4、帶有間隔墊片的自動無接觸楔形補償序列

5、自動原點功能，用于對準鍵的確居中

6、具有實時偏移校正功能的動態對準功能

7、支持新的UV-LED技術

8、返工分揀晶圓管理和靈活的盒式系統

9、自動化系統上的手動基板裝載功能

10、可以從半自動版本升級到全自動版本

11、小化系統占地面積和設施要求

12、多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

13、先進的軟件功能以及研發與全面生產之間的兼容性

14、便捷處理和轉換重組

15、遠程技術支持和SECS / GEM兼容性

四、附加功能

1.鍵對準

2.紅外對準

3.納米壓印光刻（NIL）

五、EVG620 NT技術數據

曝1、光源：

汞光源/紫外線LED光源

2、先進的對準功能：

手動對準/原位對準驗證

3、自動對準：

動態對準/自動邊緣對準

對準偏移校正算法

4、EVG620 NT產能：

全自動：一批生產量：每小時180片

全自動：吞吐量對準：每小時140片晶圓

晶圓直徑（基板尺寸）：高達150毫米

5、對準方式：

上側對準：≤±0.5 µm

底側對準：≤±1,0 µm

紅外校準：≤±2,0 µm /具體取決于基材

鍵對準：≤±2,0 µm

NIL對準：≤±3.0 µm

6、曝光設定：

真空接觸/硬接觸/軟接觸/接近模式/彎曲模式

7、楔形補償：

全自動軟件控制

8、曝光選項：

間隔曝光/洪水曝光/扇區曝光

六、系統控制

1、操作系統：

Windows

文件共享和備份解決方案/無限制 程序和參數

2、多語言用戶GUI和支持：

CN，DE，FR，IT，JP，KR

實時遠程訪問，診斷和故障排除

3、工業自動化功能：

盒式磁帶/ SMIF / FOUP / SECS / GEM /薄，彎曲，翹曲，邊緣晶圓處理

納米壓印光刻技術：SmartNIL