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        Thetametrisis膜厚測量儀

        簡要描述:Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

        • 產品型號:FR-pRo
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2022-01-20
        • 訪  問  量: 393

        詳細介紹

        Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo概述:

        FR-pRo膜厚儀: 按需搭建的薄膜特性表征工具。

        FR-pRo膜厚儀是一個模塊化和可擴展平臺的光學測量設備,用于表征厚度范圍為1nm-1mm 的涂層。

        FR-pRo膜厚儀是為客戶量身定制的,并廣泛應用于各種不同的應用。

        比如:

        吸收率/透射率/反射率測量,薄膜特性在溫度和環境控制下甚至在液體環境下的表征等等…

        Thetametrisis膜厚測量儀FR-pRo應用:

        1、大學&研究實驗室

        2、半導體行業

        3、高分子聚合物&阻抗表征

        4、電介質特性表征

        5、生物醫學

        6、硬涂層,陽極氧化,金屬零件加工

        7、光學鍍膜

        8、非金屬薄膜等等…

        FR-pRo膜厚儀可由用戶按需選擇裝配模塊,核 心部件包括光源,光譜儀(適用于 200nm-2500nm 內的任何光譜系統)和控制單元,電子通訊模塊。

        此外,還有各種各種配件,比如:

        1.用于測量吸收率/透射率和化學濃度的薄膜/試管架;

        2.用于表征涂層特性的薄膜厚度工具;

        3.用于控制溫度或液體環境下測量的加熱裝置或液體試劑盒;

        4.漫反射和全反射積分球。

        通過不同模塊組合,蕞終的配置可以滿足任何終端用戶的需求。

        Specificatins 規格:

        Model

        UV/Vis

        UV/NIR -EXT

        UV/NIR-HR

        D UV/NIR

        VIS/NIR

        D Vis/NIR

        NIR

        光譜范圍  (nm)

        200 – 850

        200 –1020

        200-1100

        200 – 1700

        370 –1020

        370 – 1700

        900 – 1700

        像素

        3648

        3648

        3648

        3648 & 512

        3648

        3648 & 512

        512

        厚度范圍

        1nm – 80um

        3nm – 80um

        1nm – 120um

        1nm – 250um

        12nm – 100um

        12nm – 250um

        50nm – 250um

        測量n*k 蕞小范圍

        50nm

        50nm

        50nm

        50nm

        100nm

        100nm

        500nm

        準確度*,**

        1nm or 0.2%

        1nm or 0.2%

        1nm or 0.2%

        1nm or 0.2%

        1nm or 0.2%

        2nm or 0.2%

        3nm or 0.4%

        精度*,**

        0.02nm

        0.02nm

        0.02nm

        0.02nm

        0.02nm

        0.02nm

        0.1nm

        穩定性*,**

        0.05nm

        0.05nm

        0.05nm

        0.05nm

        0.05nm

        0.05nm

        0.15nm

        光源

        氘燈 & 鎢鹵素燈(內置)

        鎢鹵素燈(內置)

        光斑 (直徑)

         

         

        350um (更小光斑可根據要求選配)

         

         

        材料數據庫

         

         

         

        > 600 種不同材料

         

         

         

        Accessries 配件:

        電腦

        19 英寸屏幕的筆記本電腦/觸摸屏電腦

        聚焦模塊

        光學聚焦模塊安裝在反射探頭上,光斑尺寸<100um

        薄膜/比色皿容器

        在標準器皿中對薄膜或液體的透射率測量

        接觸式探頭

        用于涂層厚度測量和光學測量的配件,適用于彎曲表面和曲面樣品

        顯微鏡

        用于高橫向分辨率的反射率及厚度顯微測量

        Scanner  (motorized)

        帶有圓晶卡盤的Polar(R-Θ)或 Cartesian(X-Y)自動化樣品臺可選,Polar(R-Θ)樣品臺支持反射率測量,Cartesian(X-Y)樣品臺支持反射率和透射率測量

        積分球

        用于表征涂層和表面的鏡面反射和漫反射

        手動 X-Y 樣品臺

        測量面積為 100mmx100mm 或 200mmx200mm 的x - y 手動平臺

        加熱模塊

        嵌入FR-tool 中,范圍由室溫~200oC,通過FR-Monitor 運行可編程溫控器(0.1 oC 精度).

        液體模塊

        聚四氟乙烯容器,用于通過石英光學窗口測量在液體中的樣品。樣品夾具,

        用于將樣品插入可處理 30mmx30mm 樣品的液體中

        流通池

        液體中吸光率、微量熒光測量

        工作原理:

        白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

        * 規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代 表光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

         

         

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