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        FR-ES:精簡膜厚測量儀

        簡要描述:FR-ES膜厚測量儀是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內進行反射率和透射率測量。

        • 產品型號:
        • 廠商性質:代理商
        • 更新時間:2022-03-23
        • 訪  問  量: 174

        詳細介紹

        FR-ES: 精簡薄膜厚度測量特性分析系統

        FR-ES是一款輕巧便捷膜厚測量分析系統。 使用FR-ES,用戶可以在370-1020nm光譜范圍內進行反射率和透射率測量。

        1、膜厚儀應用
        o 大學 & 研究實驗室
        o 半導體
        o 聚合物和光刻膠 厚度測量
        o 化學測量
        o 介電材料膜厚度測量
        o 生物醫學
        o 硬涂層,陽極氧化, 金屬零件加工
        o 光學鍍膜
        o 非金屬薄膜
        o 還有更多…(請聯系我們提出您的應用)

        FR-ES機型提供出色的膜厚測量分析性能??捎糜诟鞣N不同的應用,例如:薄膜厚度、折射率、顏色、透射率、反射率等等.

        FR-ES機型提供三種波長范圍配置: VIS/NIR (370- 1020nm, NIR-N1 (850-1050nm), NIR (900-1700nm).

               這里有很多可選的配件:

        • 濾光片可阻擋某些光譜范圍內的光

        • FR-Mic提供微米級別區域進行測量

        • 手動載物臺,  100x100mm或 200x200mm

        • 薄膜/比色皿支架用于吸光度/透射率和化學濃度測量的薄膜/比色皿支架

        • 積分球積分球用于漫反射和全反射反射率測量

               通過不同模塊的組合設置滿足任何蕞終用戶的需求。

        2、特征

        o    單擊分析(無需初始值)

        o    動態測量連續測量

        o    n & k、色座標測量

        o    保存測量的圖像和視頻

        o    Multiple installations for off-line analysis

        o    免廢軟件更新

        3、FR-ES規格(標準配置)


        機型

        VIS/NIR

        NIR

        NIR-N1

        WL Range -nm Pixels

        Min Thick -SiO2 Max Thick SiO2 Max Thick -Si

        n&k -Min. Thickness Thick. Accuracy *,** Thick. Precision*,**

        Thick. stability *,**

        370 –1020

        3648

        12nm 100um


        100nm 1nm / 0.2% 0.05nm

        0.05nm

        900 – 1700

        512

        50nm 250um


        500nm 3nm / 0.4% 0.1nm

        0.15nm

        850-1050

        3648

        1um 500um 300um


        50nm / 0.2%

        Light Source Integration Time Spot size

        Material Database Dimensions/Weight

        Power

        Halogen (internal), 10000h (MTBF)

        5msec (min)

        Diameter of 350um (smaller spot size as option)

        > 700 different materials 20x22x6cm (LxWxH), 1.8Kg (stage excluded)

        110V/230V, 50-60Hz, 10W


        4、配件


        計算機

        筆記本電腦/觸摸屏PC,19英寸屏幕

        聚焦模塊

        安裝在反射探頭上的光學模塊,用于直徑<100μm的光斑尺寸

        膜厚/比色皿套件

        標準比色皿中的薄膜或液體進行透射測量

        接觸探頭

        曲面樣品的反射率和厚度測量,具有高橫向分辨率的基于顯微鏡的反射率和厚度測量

        顯微鏡

        用于測量涂層和表面的鏡面反射和漫反射

        積分球sphere

        手動X-Y平臺,用于測量100mm x 100mm或200mm x 200mm的區域



        FR-ES 膜厚測量儀 部件.jpg

        FR-ES 膜厚測量儀 部件2.jpg

        5、膜厚測量儀工作原理

               白光反射光譜(WLRS)是測量垂直于樣品表面的某一波段的入射光,在經多層或單層薄膜反射后,經各層薄膜介面界面干涉產生的反射光譜可確定單層或多層薄膜(透明,半透明或全反射襯底)的厚度及 N*K 光學常數。

               *規格如有更改,恕不另行通知; ** 厚度測量范圍即代裱光譜范圍,是基于在高反射襯底折射率為 1.5 的單層膜測量厚度。

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