<rp id="bbpvz"><progress id="bbpvz"></progress></rp>
<delect id="bbpvz"><address id="bbpvz"><delect id="bbpvz"></delect></address></delect><delect id="bbpvz"><span id="bbpvz"><font id="bbpvz"></font></span></delect>

<font id="bbpvz"></font><mark id="bbpvz"></mark>

      <pre id="bbpvz"><listing id="bbpvz"></listing></pre>
      <thead id="bbpvz"><th id="bbpvz"><ins id="bbpvz"></ins></th></thead>

      <p id="bbpvz"><noframes id="bbpvz">

        歡迎來到岱美儀器技術服務(上海)有限公司網站!
        咨詢熱線

        13917837832

        當前位置:首頁  >  產品中心  >  EVG光刻機  >  掩模對準曝光機

        • EVG6200 NT掩模對準光刻系統

          EVG6200 NT掩模對準光刻系統 特色:EVG ® 6200 NT掩模對準器為光學雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達200毫米。

          更新時間:2022-01-20
          型號:
          廠商性質:代理商
          瀏覽量:245
        • IQ Aligner 自動掩模對準系統

          IQ Aligner 自動掩模對準系統 用于自動非接觸近距離掩模對準光刻,進行了處理和優化,用于晶圓片的尺寸高達200毫米。

          更新時間:2020-10-28
          型號:
          廠商性質:代理商
          瀏覽量:180
        • EVG610EVG單面/雙面掩模對準光刻機

          EVG單面/雙面掩模對準光刻機EVG610(單面/雙面掩模對準光刻機 微流控 納米壓?。┲С指鞣N標準光刻工藝,如真空,硬,軟接觸和接近式曝光模式,可選擇背部對準方式。此外,該系統還提供其他功能,包括鍵合對準和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速處理和重新加工,以滿足不斷變化的用戶需求,轉換時間不到幾分鐘。其先進的多用戶概念適合初學者到專家級各個階層用戶,非常適合大學和研發應用。

          更新時間:2020-10-28
          型號:EVG610
          廠商性質:代理商
          瀏覽量:1690
        共 3 條記錄,當前 1 / 1 頁  首頁  上一頁  下一頁  末頁  跳轉到第頁 
        亚洲精品不卡久久久久久
          <rp id="bbpvz"><progress id="bbpvz"></progress></rp>
        <delect id="bbpvz"><address id="bbpvz"><delect id="bbpvz"></delect></address></delect><delect id="bbpvz"><span id="bbpvz"><font id="bbpvz"></font></span></delect>

        <font id="bbpvz"></font><mark id="bbpvz"></mark>

            <pre id="bbpvz"><listing id="bbpvz"></listing></pre>
            <thead id="bbpvz"><th id="bbpvz"><ins id="bbpvz"></ins></th></thead>

            <p id="bbpvz"><noframes id="bbpvz">