晶圓缺陷檢測設備專為晶圓與晶圓對準設計，晶圓尺寸大可達150 mm。EV Group鍵合對準系統提供手動高精度帶有底部顯微鏡的校準臺。EVG的鍵合對準系統的精度能滿足MEMS生產和3D集成應用等新興領域中苛刻的對準要求。

nSpec LS晶圓缺陷檢測光學系統是研發和過程開發的理想系統。它按順序運行多個掃描。友好的用戶界面軟件使配置配方變得毫不費力。而且，隨著需求的發展，配方保存和修改也是非常方便的。

微流控缺陷檢測 nSpec Macro可以照亮樣品的整個面，或設置照明角度和/或離散照明矢量。 明場，暗場，正交和可配置的傾斜照明角度與可單獨配置的LED，配合使用可調節照明的強度，顏色和位置。